章节目录 第203章 最后一战(下)(2 / 2)
作品:《重拾2006》任务的奖励是一个名为“南京”的压缩包,大小有八十多个G。
周岩跳进了空间,解压之后,只是看看一小部分,就不敢再看了,说人间地狱已经不足以形容里面的内容了。
第二天,周岩找了个空白硬盘,将资料装了进去,然后用航空快件发给了刘安国。
过了十二月十三号,系统任务结算。
【整体评价:优!
积分奖励:一万。
额外奖励1:高阶AlphaGo源代码。
额外奖励2:脚盆家产免费抽奖一次!
附加奖励:南京(已发放)。】
还来?
看到AlphaGo的字样,周岩差点没抽过去:这玩意儿当年可是碾压了围棋圈一众大牛的存在。
不过,看到源代码的字样之后,周岩的口吐芬芳,就变成“真香”了。
“抽奖什么时候开始?”
【现在就可以!】
然后,周岩眼前突然出现了一个九阶的魔方,模仿的小格子在不停地闪烁着,最后,落到了某个小格子上。
【恭喜宿主获得纳米压印光刻(NIL)技术全套资料。】
卧槽!
周岩突然感觉有十万只神兽从眼前飞过:系统这是打算把脚盆鸡给薅秃了。
纳米压印光刻(NIL)可是号称可以媲美极紫外光刻(EUV)的技术。
虽然都是用于芯片加工的顶尖技术,可两项技术的方向并不一样。
芯片加工最重要的一环——蚀刻,是用氢氟酸在高纯度硅片上蚀刻加工半半导体元件所需要的沟槽,这一步,所有的半导体加工路线都是一样的。
而在这之前,为了保证应该被蚀刻的地方被蚀刻,需要在硅片上涂上一层保护用的光刻胶:需要蚀刻的地方,将光刻胶除掉。
而在除掉不需要保护的光刻胶时,衍生出了纳米压印光刻(NIL)和深(极)紫外光刻(DUV/EUV)。
深紫外光刻(DUV)或者极紫外光刻(EUV)的原理是,利用凸透镜片的聚焦作用,汇聚高能光线,透过等比例雕刻了半导体元件形状的透光板(掩膜版),对光刻胶进行烧蚀“除胶”处理。
而纳米压印光刻(NIL),其实上跟光刻不沾边,它是利用电子束雕刻半导体元件的“印章”形状,然后压在柔软的光刻胶涂层上,以实现“除胶”。